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TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Revestimentos Forno CVD com controlo de temperatura de 700 a 1050°C

Zona de aquecimento: 4pcs/5pcs

Temperatura máxima:: 1100℃

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RDE Forno de Sinterização de Carbono de Silício Alcançando Excelência de Temperatura para Desvaxagem de Borracha e Mais a 0,5-1 bar Pressão

Temperatura: 2200℃

Tamanho da câmara: 300*300*600mm/500*500*1200mm/500*500*1800mm/cutomize

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Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento CVD cerâmico Honeycomb para temperatura de processo 700-1050C e neutralizar de gás opcional

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Fornos industriais de grafitagem a vácuo para materiais de carbono

Max.temperatura de funcionamento ((°C: 2500

Vácuo final (Pa): 1

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Forno de aluminização por vapor químico 900-1050C personalizável com codificação Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Período refrigerando ≤5h/≤6h/≤8h da fornalha fácil da modelação por injeção do metal da manutenção

Nome: fornalha da modelação por injeção do metal

Temp de trabalho máximo: ℃ 1550

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Fornalha de aglomeração personalizada do teste MIM para o processo ferroso, Titanium de Debinding

Temperatura: 2100℃ máximo

Cor: Preto e branco

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Resistência de rastejamento térmica da fornalha de recozimento do metal do molibdênio dos processos

Detalhes da embalagem: Caixa de madeira especial

Tempo de entrega: 5-8 meses

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Máquina de pressão Isostatic quente Max Temperature do vácuo industrial 1600℃

nome: Fornalha industrial do vácuo

Aplicações: Carboneto cimentado, precisão cerâmica, de aço inoxidável, ferro-bae alloy.ect

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Fornalha ANCA 1MPa AC210V-250V do carboneto cimentado para a pressão Isostatic quente

nome: Fornalha ANCA

Pressão de trabalho máxima: 10bar

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Fornos de revestimento CVD de carburo de silício para supressores de grafite ou anéis de gravação

Detalhes da embalagem: Casas de madeira

Tempo de entrega: 5-6 meses

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HTCVD Forno de crescimento de epitaxia do carburo de silício CVD SIC Zonas de controle de temperatura múltiplas

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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high temperature furnace Fabricante em linha

fornalha do quadril do sedimento

Fornalha de aglomeração da pressão do gás

Fornalha de aglomeração do vácuo

MIM fornalha de aglomeração

fornalha de aglomeração do metal

fornalha industrial do vácuo

Fornalha de alta temperatura do vácuo

Fornalha do tratamento térmico do vácuo

fornalha de aglomeração cerâmica

Fornalha do vácuo alto

Acessórios da fornalha de aglomeração

Fornalha de carboneto do silicone

Máquina de revestimento do CVD

Fornalha de aglomeração de controle remoto do metal com plataforma interna da embalagem do termostato do metal

Carga máxima 1800Kg da zona cerâmica profissional do modo de controle 3 da temperatura da fornalha de aglomeração

Fornalha industrial resistente do vácuo, grande fornalha de carburação do vácuo

Temperatura curva ajustada verificável & do processo do computador industrial da fornalha de aglomeração do gás

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Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

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