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high vacuum furnace (479)  Fabricante em linha

A alimentação da fornalha da aglomeração do metal do controlo automático fonte AC380V±10% 50HZ

Nome: Fornalha de aglomeração do metal

Vantagem: seguro, sustentável, durável

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Fornalha de aglomeração personalizada do teste MIM para o processo ferroso, Titanium de Debinding

Temperatura: 2100℃ máximo

Cor: Preto e branco

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Fornalha de aglomeração fácil de usar do vácuo da cerâmica para o carboneto cimentado

Uso: fornalha de aglomeração

Garantia: 1 ano

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Bom preço. Forno de deposição de vapor a vácuo de alta temperatura com gama de temperatura máxima de 1100 oC on-line Vídeo

Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Período refrigerando automático alto 300-420min/480min de fornalha de aglomeração MIM

Nome: Forno de sinterização MIM

Cor: Branco

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Bom preço. 6MPA Forno de sinterização sob pressão de desvaxagem para cermetos Não cermetos Precison Semicondutor cerâmico Nitreto de silício on-line Vídeo

6MPA Forno de sinterização sob pressão de desvaxagem para cermetos Não cermetos Precison Semicondutor cerâmico Nitreto de silício

Temperatura: 1550°C-2200°C

Carga máxima: 500 kg/1200 kg/1500 kg/2500 kg

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Fornos de revestimento CVD de carburo de silício para supressores de grafite ou anéis de gravação

Detalhes da embalagem: Casas de madeira

Tempo de entrega: 5-6 meses

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Forno de revestimento MT-CVD HT-CVD com excelente qualidade de revestimento e reator personalizável

Temperatura de revestimento: 200-1050°C

Sistema de arrefecimento: 2 conjuntos de armadilhas de condensado refrigeradas a água de alto desempenho

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Bom preço. 1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 1000*1000*1500mm Espaço efetivo on-line Vídeo

1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 1000*1000*1500mm Espaço efetivo

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento CVD cerâmico Honeycomb para temperatura de processo 700-1050C e neutralizar de gás opcional

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de purificação industrial de alta temperatura para materiais de grafite

Max.Temperatura de trabalho: 2400℃

Temperatura uniformidade: ≤±10℃

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Forno de aluminização por vapor químico 900-1050C personalizável com codificação Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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