Fornalha de aglomeração do vácuo fábrica, comprar bom preço MIM fornalha de aglomeração produtos

Fornos de sinterização de alta temperatura e pressão, unidirecionais ou bidirecionais, para processamento de materiais de alta densidade

Temperatura Max. Trabalho (℃）: 2100

Uniformidade de temperatura ((°C): ≤±5

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Forno de sinterização a alta temperatura sob pressão de vácuo para cerâmica eletrónica/metalurgia de pó/materiais magnéticos

Temperatura Max. Trabalho (℃）: 2100

Uniformidade de temperatura ((°C): ≤±5

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Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de aluminização por vapor químico 900-1050C personalizável com codificação Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Forno de vácuo de laboratório Cvd personalizado Forno de revestimento de deposição de vapor químico Cvd

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Equipamento de processo de revestimento a alta temperatura com precursores e gases de processo TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Precursores e gases de processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Substratos de revestimento: Metal, Cerâmica, Vidro, etc.

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AICL3 Precursores Forno de deposição de vapor químico para ferramentas de corte a temperatura de processo 700-1050C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento CVD de roda de vedação em rolos com precursores de CO e distribuidor de gás de segundo estágio

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento CVD cerâmico Honeycomb para temperatura de processo 700-1050C e neutralizar de gás opcional

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Mandril eletrostático tipo JR para forno de sinterização por prensagem a quente a vácuo (cerâmica de nitreto de alumínio)

Temperatura Max. Trabalho (℃）: 2100

Uniformidade de temperatura ((°C): ≤±5

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Obtenha ferramentas de carburo cimentado superiores com os nossos fornos HIP Sinter Avançados

Máx. Temperatura de trabalho: 1600 ℃

Pressão máxima: 1,2,6,10,20mpa

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Forno de tratamento térmico a vácuo com aquecimento por resistência e amortecimento por pressão de 50 kg de capacidade de carga nominal

Gas Quenching: Available

Rated Loading Capacity: 50

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Forno a Vácuo Tipo Forno de Sinterização por Pressão em Cor de Tinta Cinza para Sinterização Avançada

Vida útil: 20 anos/6000 ciclos do forno

Cor da tinta: Negro, Azul, Cinza, Branco, etc.

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Zhuzhou Ruideer Metallurgy Equipment Manufacturing Co.,Ltd produtos on-line

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Fornalha de aglomeração da pressão do gás