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Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de vácuo de laboratório Cvd personalizado Forno de revestimento de deposição de vapor químico Cvd

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Fábrica chinesa Certificado ISO CE Forno sem pressão a vácuo com temperatura de trabalho máxima 2500C

Max.Temperatura de trabalho: 2500 ℃

Temperatura uniformidade: ≤±5℃

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Vídeo

1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 100010001500mm Espaço efetivo

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Forno de sinterização de reacção de carburo de silício de precisão 1800C com uniformidade de temperatura ≤ ± 5C

Max.Temperatura de trabalho: 1800℃

Temperatura uniformidade: ≤±5℃

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Fabricante de fornos de sinterização a gás sob pressão para controlo de alta temperatura de carburo/nitruro de silício

Detalhes da embalagem: Casas de madeira

Tempo de entrega: 4-5 meses

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Fornalha de carboneto alta do silicone da automatização, poder industrial do aquecimento da fornalha do vácuo 320 KVA

nome: Fornalha do vácuo alto

Max.temperature: 1800℃

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Fornalha da compressão do vácuo de AC380V/50Hz com peso de carregamento 2000kg máximo

Tamanho da câmara: Personalizado

Nome do produto: Fornalha de aglomeração da pressão do gás

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Máquina de revestimento por deposição química de vapor de 5-20um com temperatura de revestimento de 200-1050°C

Tipo de revestimento: CVD

Espessura do revestimento: 5-20um

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Forno de sinterização de vácuo de aquecimento periódico de pressão de gás multifuncional de 1MPA

Espaço utilizável: 300*300*1000mm; 400*400*1200mm; 500*500*1800mm

Zona de aquecimento: 2/3 zonas

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3 fornalhas de alta temperatura do vácuo do controle de temperatura 320KVA da zona

estrutura: única câmara, tipo horizental

Dimensão: 400*400*1600

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Fornalha de aglomeração de alta temperatura do vácuo 320KVA para sic o carboneto

estrutura: única câmara, tipo horizental

Dimensão: 500mm*500mm*1800mm

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Consumo de baixa energia de alta temperatura da fornalha do vácuo da energia da economia área pequena da ocupação

Nome: Fornalha de alta temperatura do vácuo

Vantagens: energia da economia e environment.ect de proteção

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A fornalha do tratamento térmico do vácuo da estabilidade das saídas de potência entrou H2 permitido gás/CH4/CO2

nome: fornalha do tratamento térmico do vácuo

Modo da medida da temperatura: Par termoelétrico WRe5-26

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cooling water system Fabricante em linha

fornalha do quadril do sedimento

Fornalha de aglomeração da pressão do gás

Fornalha de aglomeração do vácuo

MIM fornalha de aglomeração

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fornalha industrial do vácuo

Fornalha de alta temperatura do vácuo

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fornalha de aglomeração cerâmica

Fornalha do vácuo alto

Acessórios da fornalha de aglomeração

Fornalha de carboneto do silicone

Máquina de revestimento do CVD

Carga máxima 1800Kg da zona cerâmica profissional do modo de controle 3 da temperatura da fornalha de aglomeração

Fornalha do tratamento térmico do vácuo da eficiência elevada, processo quente seguro da pressão Isostatic

O PLC ANCA da fornalha do sedimento inteligente automático do IPC controlou personalizado

Fornalha industrial durável do vácuo com modo da medida da temperatura do par termoelétrico WRe5-26

Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Forno de vácuo de laboratório Cvd personalizado Forno de revestimento de deposição de vapor químico Cvd

Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

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Forno de sinterização de reacção de carburo de silício de precisão 1800C com uniformidade de temperatura ≤ ± 5C

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Fornalha de aglomeração de alta temperatura do vácuo 320KVA para sic o carboneto

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