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cooling water system (296)  Fabricante em linha

Bom preço. Forno de vácuo de laboratório Cvd personalizado Forno de revestimento de deposição de vapor químico Cvd on-line Vídeo

Forno de vácuo de laboratório Cvd personalizado Forno de revestimento de deposição de vapor químico Cvd

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Bom preço. Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C on-line Vídeo

Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Bom preço. Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo on-line Vídeo

Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Fábrica chinesa Certificado ISO CE Forno sem pressão a vácuo com temperatura de trabalho máxima 2500C

Max.Temperatura de trabalho: 2500 ℃

Temperatura uniformidade: ≤±5℃

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Bom preço. 1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 1000*1000*1500mm Espaço efetivo on-line Vídeo

1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 1000*1000*1500mm Espaço efetivo

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Bom preço. Forno de sinterização de reacção de carburo de silício de precisão 1800C com uniformidade de temperatura ≤ ± 5C on-line Vídeo

Forno de sinterização de reacção de carburo de silício de precisão 1800C com uniformidade de temperatura ≤ ± 5C

Max.Temperatura de trabalho: 1800℃

Temperatura uniformidade: ≤±5℃

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Fornos de sinterização de alta temperatura e pressão, unidirecionais ou bidirecionais, para processamento de materiais de alta densidade

Temperatura Max. Trabalho (℃): 2100

Uniformidade de temperatura ((°C): ≤±5

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Bom preço. Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity on-line Vídeo

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Max.Temperatura de trabalho: 1800 ℃

Uniformidade da temperatura: ≤ ± 5 ℃

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Bom preço. Fabricante de fornos de sinterização a gás sob pressão para controlo de alta temperatura de carburo/nitruro de silício on-line Vídeo

Fabricante de fornos de sinterização a gás sob pressão para controlo de alta temperatura de carburo/nitruro de silício

Detalhes da embalagem: Casas de madeira

Tempo de entrega: 4-5 meses

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Máquina de revestimento por deposição química de vapor de 5-20um com temperatura de revestimento de 200-1050°C

Tipo de revestimento: CVD

Espessura do revestimento: 5-20um

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Bom preço. Forno de sinterização de vácuo de aquecimento periódico de pressão de gás multifuncional de 1MPA on-line Vídeo

Forno de sinterização de vácuo de aquecimento periódico de pressão de gás multifuncional de 1MPA

Espaço utilizável: 300*300*1000mm; 400*400*1200mm; 500*500*1800mm

Zona de aquecimento: 2/3 zonas

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Fornalha da compressão do vácuo de AC380V/50Hz com peso de carregamento 2000kg máximo

Tamanho da câmara: Personalizado

Nome do produto: Fornalha de aglomeração da pressão do gás

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3 fornalhas de alta temperatura do vácuo do controle de temperatura 320KVA da zona

estrutura: única câmara, tipo horizental

Dimensão: 400*400*1600

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Fornalha de aglomeração de alta temperatura do vácuo 320KVA para sic o carboneto

estrutura: única câmara, tipo horizental

Dimensão: 500mm*500mm*1800mm

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Consumo de baixa energia de alta temperatura da fornalha do vácuo da energia da economia área pequena da ocupação

Nome: Fornalha de alta temperatura do vácuo

Vantagens: energia da economia e environment.ect de proteção

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