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high pressure furnace (484)  Fabricante em linha

Bom preço. Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo on-line Vídeo

Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Bom preço. Forno de brasagem a vácuo avançado para ligação AMB de substratos cerâmicos a 1200C on-line Vídeo

Forno de brasagem a vácuo avançado para ligação AMB de substratos cerâmicos a 1200C

Max.temperatura de funcionamento ((°C): 1200

Uniformidade de temperatura ((°C): ≤ ± 3

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Bom preço. Forno de sinterização de reacção de carburo de silício de precisão 1800C com uniformidade de temperatura ≤ ± 5C on-line Vídeo

Forno de sinterização de reacção de carburo de silício de precisão 1800C com uniformidade de temperatura ≤ ± 5C

Max.Temperatura de trabalho: 1800℃

Temperatura uniformidade: ≤±5℃

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Bom preço. Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity on-line Vídeo

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Max.Temperatura de trabalho: 1800 ℃

Uniformidade da temperatura: ≤ ± 5 ℃

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Fornos de revestimento CVD de carburo de silício para supressores de grafite ou anéis de gravação

Detalhes da embalagem: Casas de madeira

Tempo de entrega: 5-6 meses

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Bom preço. China CVD Furnace Manufactures, Máquina de revestimento de carburo de silício on-line Vídeo

China CVD Furnace Manufactures, Máquina de revestimento de carburo de silício

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Forno de purificação industrial de alta temperatura para materiais de grafite

Max.Temperatura de trabalho: 2400℃

Temperatura uniformidade: ≤±10℃

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Bom preço. Forno de soldadura por lotes de alta temperatura e com ultra-alto vácuo a 800-1300°C para materiais de aço ou cobre on-line Vídeo

Forno de soldadura por lotes de alta temperatura e com ultra-alto vácuo a 800-1300°C para materiais de aço ou cobre

Max.temperatura de funcionamento ((°C): 1300

Temperature uniformity(℃): ≤±3

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Fornalha de alta temperatura do vácuo do controle do PLC de 320KVA Siemens

estrutura: única câmara, tipo horizental

Dimensão: Personalizado

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Bom preço. RDE Máquina de revestimento de carburo de silício Forno de deposição de vapor químico CVD on-line Vídeo

RDE Máquina de revestimento de carburo de silício Forno de deposição de vapor químico CVD

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Bom preço. HTCVD Forno de crescimento de epitaxia do carburo de silício CVD SIC Zonas de controle de temperatura múltiplas on-line Vídeo

HTCVD Forno de crescimento de epitaxia do carburo de silício CVD SIC Zonas de controle de temperatura múltiplas

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Bom preço. Forno de sinterização cerâmica de nitrato de silício com pressão de 60 bar e espaço de trabalho personalizável on-line Vídeo

Forno de sinterização cerâmica de nitrato de silício com pressão de 60 bar e espaço de trabalho personalizável

Espaço de trabalho: 400*400*1200mm, ou personalizado de acordo com as necessidades do cliente

Pressão de trabalho: Barra 60

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Bom preço. Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado on-line Vídeo

Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Bom preço. Forno de revestimento CVD de roda de vedação em rolos com precursores de CO e distribuidor de gás de segundo estágio on-line Vídeo

Forno de revestimento CVD de roda de vedação em rolos com precursores de CO e distribuidor de gás de segundo estágio

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Bom preço. Forno de revestimento CVD cerâmico Honeycomb para temperatura de processo 700-1050C e neutralizar de gás opcional on-line Vídeo

Forno de revestimento CVD cerâmico Honeycomb para temperatura de processo 700-1050C e neutralizar de gás opcional

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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1200-2500°C Temperatura de projeto Forno a vácuo de alta temperatura com buraco de observação

Tamanho da câmara: Indicações de temperatura e temperatura

Último vácuo: 3,67*10-3 Pa

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