high temperature coating process equipment (47) Fabricante em linha
Temperatura de processo (°C): 700 a 1050
Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Temperatura de processo (°C): 700 a 1050
Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Temperatura de processo (°C): 700 a 1050
Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Temperatura de processo (°C): 700 a 1050
Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Detalhes da embalagem: Casas de madeira
Tempo de entrega: 5-6 meses
Reator: 2 Pcs
Temperatura máxima:: 1100℃
Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500
Potência de aquecimento ((KVA): 300
Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500
Potência de aquecimento ((KVA): 300
Workingspace: 12-1000L
Max.pressão de trabalhoMax.pressão de trabalho ((MPA): 1、2、6、10、20
Nome: Fornalha industrial do vácuo
Especificações: RDE-GWL-5518
Câmara da reação: 2 PCes
Temperatura máxima:: 1100 ℃
Câmara da reação: 2 PCes
Temperatura máxima:: 1100 ℃
Método de revestimento: Deposição química de vapor (CVD)
Potência total: Cerca de 40/50/60/80KW
Temperatura de processo (°C): 700 a 1050
Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Temperatura de processo (°C): 700 a 1050
Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Envie a sua consulta directamente para nós