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vacuum pressure furnace (543)  Fabricante em linha

Fornalha de alta temperatura do vácuo do controle do PLC de 320KVA Siemens

estrutura: única câmara, tipo horizental

Dimensão: Personalizado

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Fornalha ANCA do único sedimento da câmara 3312 com função refrigerando rápida

Material do aquecimento: Grafite

Garantia: 12 meses

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Fornalha de aglomeração azul profunda preta branca da pressão do gás para o material do nitreto do carboneto

Cor: branco, cinza, preto, azul

Avaliação de poder: 120KVA, 150KVA, 480KVA

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Fornalha de aglomeração da pressão do gás do desempenho ótimo para materiais duros do PM dos cermet dos metais

Cor: branco, cinza, preto, azul

Avaliação de poder: 120KVA, 150KVA, 480KVA

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Bom preço. Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC on-line Vídeo

Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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fornalha de aglomeração da pressão do gás 1-100bar para o ℃ até 2100 da cerâmica do nitreto de silicone

Escudo da fornalha: carbono/de aço inoxidável

Thermocouplets: Nanmac/Jumo

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Forno de revestimento MT-CVD HT-CVD com excelente qualidade de revestimento e reator personalizável

Temperatura de revestimento: 200-1050°C

Sistema de arrefecimento: 2 conjuntos de armadilhas de condensado refrigeradas a água de alto desempenho

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Bom preço. Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C on-line Vídeo

Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Bom preço. Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo on-line Vídeo

Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Bom preço. Forno de aluminização por vapor químico 900-1050C personalizável com codificação Hf Zr e Si on-line Vídeo

Forno de aluminização por vapor químico 900-1050C personalizável com codificação Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Aplicação da fornalha de aglomeração do nitreto de silicone na indústria de automóvel

Cor: branco, cinza, preto, azul

Pressão: 58/98bar

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Fornalha de aglomeração do nitreto de silicone na aplicação industrial que segura o metal derretido

Cor: branco, cinza, preto, azul

Pressão: 58/98bar

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Nublar-se de New Look RDE controla a fornalha de aglomeração com ajuste inteligente da aglomeração

Tipo: Controle inteligente

Cor: verde, preto, branco, cinzento

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Bom preço. Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado on-line Vídeo

Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de sinterização de recristalização de carburo de silício de alta temperatura Máximo 2400C 3Pa/h Taxa de aumento de pressão

Max.temperatura de trabalho: 2400℃

Temperatura uniformidade: ≤±5℃

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Tamanho e configuração personalizados fornalha personalizados do tratamento térmico do vácuo

Tamanho: Tamanho personalizado

Estrutura: única câmara, tipo horizental

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