comprar vacuum furnace systems, de boa qualidade vacuum furnace systems fabricante

A fornalha ANCA do sedimento de poupança de energia entrou-o a AR/N2/permitidos gás ISO9001 aprovado

Nome: Fornalha do quadril do sedimento

Max.Temperature: 1600℃

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Zona do modo de controle 2 da temperatura da fornalha de aglomeração da estrutura compacta MIM

Nome: Forno de sinterização MIM

Modo da medida da temperatura:: Par termoelétrico WRe5-26

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Fornalha de aglomeração feito-à-medida da pressão do gás multi atmosfera controlada

Tipos: Fornalha de aglomeração da pressão do gás

Método de aquecimento: Aquecimento Resistive

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Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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500kg a carga 1MPa limpa a fornalha pressurizada aglomerar para o carboneto cimentado

Tempo refrigerando: pelo menos 6 horas

Pressão: 1MPa

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Forno de deposição de vapor a vácuo de alta temperatura com gama de temperatura máxima de 1100 oC

Reator: 2pcs

Temperatura máxima:: 1100℃

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Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Período refrigerando automático alto 300-420min/480min de fornalha de aglomeração MIM

Nome: Forno de sinterização MIM

Cor: Branco

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1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 100010001500mm Espaço efetivo

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Quantidade material de proteção 32 da fornalha de aglomeração do ambiente MIM/42 PCes

Nome: Forno de sinterização MIM

Temperatura de trabalho máxima: 1550°C

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Forno de aluminização por vapor químico 900-1050C personalizável com codificação Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Câmara de revestimento de liga de temperatura Resistência elétrica Forno CVD de aquecimento para substratos metálicos ou cerâmicos de tamanho personalizável

Método de revestimento: Deposição química de vapor (CVD)

Potência total: Cerca de 40/50/60/80KW

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Fornalha ANCA do sedimento automático completo para o aquecimento Resistive da metalurgia de pó

Especificação: Pode ser personalizado de acordo com exigências de cliente

Campo da aplicação: metalurgia de pó

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Fornalha de aglomeração integrada controle do vácuo do PID com estrutura de aquecimento periódica

Zona de trabalho eficaz: 200*200*400

Weignt de Max.loading: 50KG

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Fornalha de aglomeração industrial do vácuo da liga do controle do PC

Vida útil: 20 anos

Tempos de funcionamento: 300 vezes/ano

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Fornalha do tratamento térmico do vácuo

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Acessórios da fornalha de aglomeração

Fornalha de carboneto do silicone

Máquina de revestimento do CVD

Consumo de baixa energia de alta temperatura da fornalha do vácuo da energia da economia área pequena da ocupação

Fornalha inteligente conveniente do vácuo alto com calor do resumo na função do ponto de ruptura

Fornalha de recozimento do vácuo do nitreto de silicone, fornalha de alta temperatura do vácuo da liga dura

Fornalha industrial personalizada do vácuo, temperatura máxima quente 1600℃ de máquina de pressão Isostatic

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