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Pressão máxima: 1,2,6,10,20mpa

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1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 100010001500mm Espaço efetivo

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

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Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

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Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Zhuzhou Ruideer é um fabricante profissional na indústria do PM, especializando-se em produzir fornalhas de aglomeração.

Voltaremos a ligar-lhe o mais depressa possível.

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RDE Máquina de revestimento de carburo de silício Forno de deposição de vapor químico CVD

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