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Forno de vácuo de laboratório Cvd personalizado Forno de revestimento de deposição de vapor químico Cvd

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno de revestimento MT-CVD HT-CVD com excelente qualidade de revestimento e reator personalizável

Temperatura de revestimento: 200-1050°C

Sistema de arrefecimento: 2 conjuntos de armadilhas de condensado refrigeradas a água de alto desempenho

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Forno de revestimento CVD cerâmico Honeycomb para temperatura de processo 700-1050C e neutralizar de gás opcional

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento CVD de roda de vedação em rolos com precursores de CO e distribuidor de gás de segundo estágio

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento por deposição química de vapor com precursores de TiCL4, AICL3 e gases de processo

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno de revestimento por deposição química de vapor para ferramenta de corte de carburo de tungstênio/cimentado

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Precursores e gases de processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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AICL3 Precursores Forno de deposição de vapor químico para ferramentas de corte a temperatura de processo 700-1050C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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RDE Máquina de revestimento de carburo de silício Forno de deposição de vapor químico CVD

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Fornos de revestimento CVD de carburo de silício para supressores de grafite ou anéis de gravação

Detalhes da embalagem: Casas de madeira

Tempo de entrega: 5-6 meses

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Máquina de revestimento CVD de aquecimento por resistência elétrica para revestimento a altas temperaturas até 1000 °C Projeto chinês e chave na mão

Potência total: Cerca de 40/50/60/80KW

Substratos de revestimento: Metal, Cerâmica, Vidro, etc.

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Forno de deposição de vapor CVD/CVI avançado para revestimento TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura de processo 700-1050C

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Câmara de revestimento de liga de temperatura Resistência elétrica Forno CVD de aquecimento para substratos metálicos ou cerâmicos de tamanho personalizável

Método de revestimento: Deposição química de vapor (CVD)

Potência total: Cerca de 40/50/60/80KW

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China CVD Furnace Manufactures, Máquina de revestimento de carburo de silício

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Revestimentos Forno CVD com controlo de temperatura de 700 a 1050°C

Zona de aquecimento: 4pcs/5pcs

Temperatura máxima:: 1100℃

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1500C CVD SIC Forno de crescimento epitaxi para crescimento de carburo de silício em 100010001500mm Espaço efetivo

Espaço efetivo ((mm): 1000*1000*1500

Potência de aquecimento ((KVA): 300

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Forno CVD de revestimento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizável com temperatura de processo de 700-1050 oC

Temperatura de processo (°C): 700 a 1050

Tipos de revestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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fornalha do quadril do sedimento

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